| 真空鍍膜設備技術一般術語
191视频播放观看vacuum coating：在處於真空下的基片上製取膜層的一種方法。
2基片substrate：膜層承受體。
3試驗基片testing substrate：在鍍膜設備開始、鍍膜過程中或鍍膜結束後用作測量和（或）試驗的基片。
4鍍膜材料coating material：用來製取膜層的原材料。
5蒸發材料evaporation material：在真空蒸發中用來蒸發的鍍膜材料。
6濺射材料sputtering material：有真空濺射中用來濺射的鍍膜材料。
7膜層材料(膜層材質)film material：組成膜層的材料。
8蒸發速率evaporation rate：在給定時間間隔內,蒸發出來的材料量,除以該時間間隔
9濺射速率sputtering rate：在給定時間間隔內,濺射出來的材料量,除以該時間間隔。
10沉積速率deposition rate：在給定時間間隔內,沉積在基片上的材料量,除以該時間間隔和基片表麵積。
11鍍膜角度coating angle：入射到基片上的粒子方向與被鍍表麵法線之間的夾角。
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